A indústria de chips dos Estados Unidos está passando por uma grande transformação, e uma nova startup chamada Substrate entrou nesse cenário com a meta de criar uma tecnologia de litografia que reduza a dependência do país em relação à gigante holandesa ASML, que hoje domina esse mercado.
Hoje, praticamente todos os chips mais avançados do mundo dependem das máquinas de litografia da ASML, que usam luz ultravioleta extrema (EUV) para gravar os circuitos minúsculos dentro dos processadores.
Os EUA não têm, até o momento, uma tecnologia nacional capaz de competir com isso. Mas, segundo uma reportagem da Bloomberg, a Substrate quer mudar esse jogo.
A ideia da empresa é desenvolver máquinas de litografia que usem raios X no lugar da luz EUV. Essa abordagem usa comprimentos de onda ainda menores, o que poderia tornar o processo mais preciso e barato.
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Os raios X seriam gerados por um acelerador de partículas, uma tecnologia diferente das fontes de luz tradicionais usadas nas máquinas da ASML. Mesmo sem ter um produto comercial pronto, a Substrate já levantou US$ 100 milhões em investimentos.
Entre os nomes que apostaram na empresa está o Founders Fund, de Peter Thiel, e com isso a startup já alcançou uma avaliação de US$ 1 bilhão — tudo com base na promessa de criar ferramentas de litografia mais avançadas e econômicas.
Durante uma demonstração à imprensa, a Substrate apresentou parte da sua tecnologia. Especialistas que acompanharam a exibição consideraram o projeto impressionante pela ousadia de propor algo tão diferente.
Segundo a empresa, seu método consegue diminuir drasticamente os custos do processo de litografia ao usar um sistema mais eficiente de máscaras e resistores — elementos que controlam como o padrão dos circuitos é gravado nos chips.
Substrate is building a next-generation foundry to return America to dominance in semiconductor production. To achieve this, we will use our technology—a new form of advanced X-ray lithography—to power them.
America invented semiconductors. We will lead again. pic.twitter.com/1rgnWSYYZG
— Substrate (@substrate) October 28, 2025
Apesar do entusiasmo, o sucesso da Substrate depende de conseguir aplicar essa técnica de raios X em produção de alto volume (HVM), ou seja, fabricar chips em larga escala com qualidade e rendimento consistentes.
Atualmente, a tecnologia EUV da ASML é extremamente madura e já está totalmente integrada nas linhas de produção das maiores fabricantes de chips do mundo.
Isso torna difícil para uma nova empresa convencer a indústria a trocar de método — principalmente em um setor que não tolera erros e exige confiabilidade total.
Ainda assim, a tentativa da Substrate é vista como um passo importante para fortalecer o setor de semicondutores dos Estados Unidos e reduzir a dependência de equipamentos estrangeiros.
Mesmo que o objetivo de superar a ASML pareça distante neste momento, o simples fato de haver uma iniciativa nacional nessa área já é um avanço relevante.
