A indústria de semicondutores chinesa deu mais um passo importante. Pesquisadores da Universidade de Zhejiang, em Hangzhou, anunciaram o desenvolvimento da primeira máquina de litografia com feixe de elétrons (E-beam) para uso comercial no país.
A tecnologia, chamada Xizhi, marca mais um avanço para a China, mas ainda não alcança o nível dos equipamentos mais avançados do mundo, fabricados pela holandesa ASML.
Na fabricação de chips, a litografia é o processo que "desenha" circuitos em escalas nanométricas nos wafers de silício. Quanto mais preciso for esse desenho, menores e mais potentes podem ser os chips.
No caso da Xizhi, em vez de usar luz ultravioleta extrema (EUV) como os equipamentos da ASML, a máquina chinesa utiliza feixes de elétrons para esculpir os circuitos.
Isso garante uma precisão impressionante de até 0,6 nanômetro, comparável à tecnologia de ponta dos modelos High-NA EUV da ASML. Apesar da precisão, a principal limitação da E-beam é a velocidade.
Enquanto a litografia por EUV consegue gravar circuitos de forma paralela e em grande escala, o feixe de elétrons escreve ponto a ponto.
Isso significa que um único wafer pode levar horas para ficar pronto, o que torna a técnica inviável para produção em massa.
Na prática, a máquina chinesa deve ser usada principalmente em pesquisa e desenvolvimento de protótipos, ajudando a reduzir a dependência externa e acelerar a curva de aprendizado da indústria local.
Atualmente, a China ainda depende de máquinas DUV (Deep Ultraviolet) para fabricar a maior parte de seus chips. As restrições de exportação impostas pelos Estados Unidos dificultam o acesso do país aos equipamentos mais avançados da ASML, considerados essenciais para a produção de processadores de última geração.
Mesmo assim, iniciativas como a Xizhi mostram que a diferença entre a China e o Ocidente está diminuindo, ainda que de forma lenta.
Apesar de estar anos atrás dos EUA em capacidade de produção, a tendência é que esse hiato se reduza ao longo da próxima década.
Dito isso, a litografia por feixe de elétrons não vai substituir os equipamentos EUV no curto prazo, mas representa um marco importante para o setor de chips chinês.
