A China pode estar cerca de 14 anos atrás das tecnologias atuais de fabricação de chips usadas no Ocidente, mas as restrições comerciais impostas ao país podem acelerar o desenvolvimento de soluções próprias.
Essa é a avaliação de Frank Rohmund, CEO da divisão de semicondutores da fabricante alemã de óptica Zeiss. O executivo falou sobre o assunto em entrevista à Bloomberg durante a conferência SEMICON, em Taiwan.
Segundo Rohmund, os avanços chineses em litografia ultravioleta profunda (DUV) precisam ser analisados por vários critérios antes de uma comparação direta com equipamentos produzidos fora da China.
Avanço da China em litografia DUV já vinha sendo acompanhado
Por causa das restrições impostas por países ocidentais, qualquer avanço da China na área de litografia costuma receber grande atenção do setor de semicondutores.
No fim de julho, surgiram informações de que o país havia iniciado a produção de máquinas próprias de litografia DUV por imersão.
Esse tipo de equipamento usa uma fina camada de água para controlar a passagem da luz durante a impressão dos circuitos nos chips.
Relatos posteriores indicaram que essas máquinas dificilmente representariam uma ameaça imediata à ASML, que domina esse mercado.
Segundo fontes citadas nesses relatos, os equipamentos chineses ainda teriam dificuldade para alcançar o nível das máquinas produzidas pela empresa holandesa. Rohmund segue uma avaliação parecida.
O executivo disse que não possui informações sobre as máquinas chinesas além do que já foi publicado pela imprensa, mas comentou que o desenvolvimento de equipamentos DUV no país é conhecido há décadas. Ele também explicou que uma comparação depende de vários aspectos técnicos e operacionais.
"Agora precisamos ver do que essas ferramentas realmente são capazes. Acreditamos que, em desempenho, produtividade, facilidade de uso e capacidade de serviço, ainda estamos muito à frente."
A Zeiss trabalha com cerca de 1.500 fornecedores. Segundo Rohmund, a empresa começou há alguns anos a preparar sua cadeia de fornecimento para atender ao aumento atual da capacidade de produção.
Sobre o ciclo de investimentos relacionado à inteligência artificial, o executivo considera que esse movimento deve continuar pelo menos até 2028.
Zeiss trabalha com cenário sem venda de tecnologia EUV para a China
Em relação às restrições comerciais contra a China, Rohmund disse que a premissa básica da Zeiss continua sendo trabalhar com um cenário no qual a empresa não poderá exportar tecnologia EUV para o país.
O executivo também comentou um relatório recente do UBS. No documento, o banco estimou que a China estaria pelo menos uma década atrás da ASML no desenvolvimento de equipamentos EUV.
Como as máquinas EUV possuem uma fabricação muito mais complexa, Rohmund considera que uma diferença de cerca de 15 anos é uma estimativa "provavelmente razoável", ainda que esse intervalo possa variar.
Ao mesmo tempo, há relatos de que o governo Trump pode adotar novas sanções contra a China e ampliar as restrições para equipamentos DUV. Para Rohmund, medidas desse tipo podem acelerar o desenvolvimento tecnológico dentro do próprio país.
"Obviamente, isso não é bom para nossos negócios. Somos céticos e não acreditamos em um impacto positivo dessas restrições de exportação, porque elas aceleram a inovação na China. Esperamos que o pragmatismo continue forte e que possamos continuar fazendo negócios na China."
A avaliação do executivo coloca dois pontos lado a lado, a China ainda mantém uma distância considerável em relação às tecnologias EUV usadas no Ocidente, enquanto restrições cada vez maiores podem incentivar o país a investir mais no desenvolvimento de equipamentos próprios.
