Startup chinesa apresenta primeiro protótipo de fonte de luz EUV para concorrer com a ASML
Langdao Silex mostrou o FlintNano LPP‑OXXO, fonte EUV com 15 W, mas ainda falta anos para produção em massa.
Romário Leite · 20 de outubro de 2026
01
Protótipo apresentado em Xangai
Na 26ª Feira Internacional da Indústria da China, a Langdao Silex exibiu o FlintNano LPP‑OXXO, fonte de luz EUV desenvolvida em grande parte no país.
02
Como gera luz EUV
O equipamento usa laser de 1.000 W que cria plasma (processo LPP). O plasma produz luz EUV com potência mínima de 15 W e eficiência acima de 2%.
03
Desempenho do protótipo
O protótipo pode operar mais de 100 horas seguidas. O plasma tem 60 µm de diâmetro, variação de tamanho de 3% RMS e variação de energia perto de 5%.
04
Teste em wafers
Equipe da startup realizou exposições de wafers à luz EUV. Ainda falta validar o processo em produção de larga escala, etapa essencial para chips.
05
Perspectiva de produção comercial
A Langdao Silex calcula entre três e cinco anos para levar a fonte a produção em massa, embora desafios técnicos possam estender o prazo.
06
Impacto nas relações comerciais
Se os EUA aumentarem restrições a equipamentos DUV, a China pode acelerar projetos como o FlintNano. A ASML ainda domina o mercado, mas depende de vendas chinesas.
Leia a matéria completa
Langdao Silex mostrou o FlintNano LPP‑OXXO, fonte EUV com 15 W, mas ainda falta anos para produção em massa.